Спосіб надання додаткової енергії катоду в процесі іонно-плазмового напилювання

Simple item page
dc.contributor.authorКоваленко, Валентина Володимирівнаuk_UA
dc.contributor.authorЗаяць, Юрій Львовичuk_UA
dc.contributor.authorПшінько, Павло Олександровичuk_UA
dc.contributor.authorКоваленко, Сергій Володимировичuk_UA
dc.date.accessioned2021-06-18T09:04:06Z
dc.date.available2021-06-18T09:04:06Z
dc.date.issued2014
dc.descriptionВ. Коваленко: ORCID 0000-0002-1196-77304; Ю. Заяць: ORCID 0000-0002-9213-1790; П. Пшінько: ORCID 0000-0003-4187-5340uk_UA
dc.description.abstractUK: Спосіб надання додаткової енергії катоду в процесі іонно-плазмового напилювання включає застосування у робочій камері катода, анода, магнітної системи з охолодженням, розпилення матеріалу катода за рахунок бомбардування його атомами газів або їх сумішшю при наданні катоду-мішені додаткової енергії у розрахунок на атом речовини згідно з формулою (0,1-1,1) k Тпл, де Тпл - температура плавлення речовини мішені, K; k=8,625×10-5 еВ/ат×K, при розпиленні матеріалу катода за рахунок бомбардування його атомами, що належать матеріалу катода, або іншими атомами газів та їх сумішшю. Катоду-мішені додають додаткову енергію за рахунок утворення тріщин в матеріалі катода або застосуванням композитних катодів з нещільно прилягаючими елементами, або локальним зменшенням перерізу проходження заряду.uk_UA
dc.description.abstractRU: Способ придачи дополнительной энергии катоду в процессе ионно-плазменного напыления включает использование в рабочей камере катода, анода, магнитной системы с охлаждением, распыление материала катода за счет бомбардировки его атомами газов или их смесью при придании катоду-мишени дополнительной энергии в расчете на атом вещества согласно формуле (0,1-1,1) k Тпл, где Тпл – температура плавления вещества мишени, K; k=8,625×10-5 еВ/ат К, при распылении материала катода за счет бомбардировки его атомами, которые принадлежат материалу катода или другими атомами и их смесью. Катоду-мишени придают дополнительную энергию за счет образования трещин в материале катода или использованием композитных катодов с неплотно прилегающими элементами или локальными уменьшениями сечения прохождения заряда.ru_RU
dc.description.abstractEN: A method for providing cathode with additional energy during a process of ion-plasma deposition comprises using in the working chamber of cathode, anode, a magnetic system with cooling, spraying of the cathode material due to bombarding with gaseous atoms or a mixture thereof at giving the additional energy to the cathode target per atom of the substance according to the formula (0.1-1.1) k Tml, where Tml is a temperature of target substance melting, K, k=8,625×10-5eV/at×K, spraying the cathode material due to bombardment thereof with atoms, which belong to the cathode material or other atoms, and mixtures thereof. The additional energy is applied to the cathode target due to the formation of cracks in the cathode material or by using of composite cathodes with loose fitting elements or local decrease in charge cross-section passing.en
dc.identifier.citationСпосіб надання додаткової енергії катоду в процесі іонно-плазмового напилювання: пат. 90122 Україна: МПК C23C 14/22, C23C 14/35, C23C 14/34, C23C 14/48. № u201315146; заявл. 24.12.2013; опубл. 12.05.2014, Бюл. № 9. 5 с.uk_UA
dc.identifier.urihttp://eadnurt.diit.edu.ua/jspui/handle/123456789/13740
dc.identifier.urihttps://base.uipv.org/searchINV/search.php?action=viewdetails&IdClaim=200253
dc.language.isouk_UA
dc.publisherДП "Український інститут промислової власності", м. Київuk_UA
dc.subjectМПК C23C 14/22uk_UA
dc.subjectC23C 14/35uk_UA
dc.subjectC23C 14/34uk_UA
dc.subjectC23C 14/48uk_UA
dc.subjectплазмова технікаuk_UA
dc.subjectвакуумне іонне-плазмове нанесенняuk_UA
dc.subjectзони магнетронуuk_UA
dc.subjectпатентuk_UA
dc.subjectКБЖДuk_UA
dc.subjectСПКТБ ЗТuk_UA
dc.titleСпосіб надання додаткової енергії катоду в процесі іонно-плазмового напилюванняuk_UA
dc.title.alternativeСпособ предоставления дополнительной энергии катодом в процессе ионно-плазменного напыленияru_RU
dc.title.alternativeMethod for Providing Cathode With Additional Energy During Process of Ion-Plasma Depositionen
dc.typePatenten
Files
Original bundle
Now showing 1 - 1 of 1
Thumbnail Image
Name:
Patent_ 90122.pdf
Size:
172.38 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Patent
Download
License bundle
Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
license.txt
Size:
1.71 KB
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description:
Download
Collections
Охоронні документи
Інші праці КБЖД