Спосіб локального лазерно-стимульованого електролітичного осадження плівок цинку

Loading...
Thumbnail Image
Date
2006
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
ДП "Український інститут промислової власності", м. Київ
Abstract
UK: Спосіб локального лазерно-стимульованого електролітичного осадження плівок цинку виконують при постійному струмі і зовнішній стимуляції лазерним випромінюванням. Осадження локальних плівок цинку проводять при густині струму 0,01-0,09А/дм2 із використанням лазерного випромінювання довжиною хвилі =0,6943мкм.
RU: Способ локального лазерно-стимулированного электролитического осаждения пленок цинка выполняют при постоянном токе и внешней стимуляции лазерным облучением. Осаждение локальных пленок цинка проводят при плотности тока 0,01-0,09 А / дм2 с использованием лазерного излучения длиной волны =0,6943 мкм.
EN: Method for a local laser-stimulated electrolyte precipitation of zinc films is carried out at direct current and external laser radiation stimulation. Precipitation of zinc local films is carried out at 0.01-0.09 A/dm2 current density with laser radiation of =0.6943 mkm wavelength.
Description
В. Заблудовський: ORCID 0000-0001-9930-2356; Е. Штапенко: ORCID 0000-0001-7046-3578; В. Дудкина: ORCID 0000-0001-6695-9810
Keywords
МПК C25D 5/00, нанесення металевих покрить, локальні металеві плівки, лазерно-стимульоване електролітичне осадження, патент, КФ
Citation
Спосіб локального лазерно-стимульованого електролітичного осадження плівок цинку: пат. 18614 Україна: МПК C25D 5/00. № u200605425; заявл. 18.05.2006; опубл. 15.11.2006, Бюл. № 11. 2 с.