Please use this identifier to cite or link to this item:
http://eadnurt.diit.edu.ua/jspui/handle/123456789/13725| Title: | Спосіб отримання нікелевих гальванічних покриттів, модифікованих наноалмазами |
| Other Titles: | Способ получения никелевых гальванических покрытий, модифицированных наноалмазами Method for Producing Nickel Galvanic Plating Modified With Nanodiamonds |
| Authors: | Заблудовський, Володимир Олександрович Штапенко, Едуард Пилипович Дудкіна, Валентина Василівна Терещенко, Олег Сергійович |
| Keywords: | МПК C25D 15/00 B82B 1/00 C25D 5/20 гальванічні покриття нікелеві покриття машинобудування приладобудування патент КФ |
| Issue Date: | 2014 |
| Publisher: | ДП "Український інститут промислової власності", м. Київ |
| Citation: | Спосіб отримання нікелевих гальванічних покриттів, модифікованих наноалмазами: пат. 88647 Україна: МПК C25D 15/00, B82B 1/00, C25D 5/20. № u201309097; заявл. 19.07.2013; опубл. 25.02.2014, Бюл. № 4. 4 с. |
| Abstract: | UK: Спосіб отримання нікелевих гальванічних покриттів, модифікованих наноалмазами включає введення в електроліт фракцій наноалмазів розмірами менше 200 нм, диспергованих до нанесення покриття і в процесі нанесення покриття шляхом впливу на суспензію електроліту кавітацією, причому електроосадження проводять імпульсним струмом з частотою f=50¸800 Гц і шпаруватістю Q=2¸50. RU: Способ получения никелевых гальванических покрытий, модифицированных наноалмазами включает введение в электролит фракций наноалмазов размерами менее 200 нм, диспергированных до нанесения покрытия и в процессе нанесения покрытия путем воздействия на суспензию электролита кавитацией, причем электроосаждение проводят импульсным током с частотой f=50¸800 Гц и скважностью Q=2¸50. EN: A method for producing nickel galvanic plating modified with nanodiamonds comprises introduction to the electrolyte fractions of nanodiamonds with the size less than 200 nm, which are dispersed before the coating application and in the process of coating application by acting with cavitation on the electrolyte suspension, at that electrodeposition is carried out with pulsed current at a frequency f=50¸800 Hz and relative pulse duration Q = 2¸50. |
| Description: | В. Заблудовський: ORCID 0000-0001-9930-2356; Е. Штапенко: ORCID 0000-0001-7046-3578; В. Дудкіна: ORCID 0000-0001-6695-9810 |
| URI: | http://eadnurt.diit.edu.ua/jspui/handle/123456789/13725 https://base.uipv.org/searchINV/search.php?action=viewdetails&IdClaim=197397&chapter=biblio |
| Appears in Collections: | Інші праці КФ Охоронні документи |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Patent_87842.pdf | Patent | 177,29 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
