Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://eadnurt.diit.edu.ua/jspui/handle/123456789/13725
Название: Спосіб отримання нікелевих гальванічних покриттів, модифікованих наноалмазами
Другие названия: Способ получения никелевых гальванических покрытий, модифицированных наноалмазами
Method for Producing Nickel Galvanic Plating Modified With Nanodiamonds
Авторы: Заблудовський, Володимир Олександрович
Штапенко, Едуард Пилипович
Дудкіна, Валентина Василівна
Терещенко, Олег Сергійович
Ключевые слова: МПК C25D 15/00
B82B 1/00
C25D 5/20
гальванічні покриття
нікелеві покриття
машинобудування
приладобудування
патент
КФ
Дата публикации: 2014
Издательство: ДП "Український інститут промислової власності", м. Київ
Библиографическое описание: Спосіб отримання нікелевих гальванічних покриттів, модифікованих наноалмазами: пат. 88647 Україна: МПК C25D 15/00, B82B 1/00, C25D 5/20. № u201309097; заявл. 19.07.2013; опубл. 25.02.2014, Бюл. № 4. 4 с.
Краткий осмотр (реферат): UK: Спосіб отримання нікелевих гальванічних покриттів, модифікованих наноалмазами включає введення в електроліт фракцій наноалмазів розмірами менше 200 нм, диспергованих до нанесення покриття і в процесі нанесення покриття шляхом впливу на суспензію електроліту кавітацією, причому електроосадження проводять імпульсним струмом з частотою f=50¸800 Гц і шпаруватістю Q=2¸50.
RU: Способ получения никелевых гальванических покрытий, модифицированных наноалмазами включает введение в электролит фракций наноалмазов размерами менее 200 нм, диспергированных до нанесения покрытия и в процессе нанесения покрытия путем воздействия на суспензию электролита кавитацией, причем электроосаждение проводят импульсным током с частотой f=50¸800 Гц и скважностью Q=2¸50.
EN: A method for producing nickel galvanic plating modified with nanodiamonds comprises introduction to the electrolyte fractions of nanodiamonds with the size less than 200 nm, which are dispersed before the coating application and in the process of coating application by acting with cavitation on the electrolyte suspension, at that electrodeposition is carried out with pulsed current at a frequency f=50¸800 Hz and relative pulse duration Q = 2¸50.
Описание: В. Заблудовський: ORCID 0000-0001-9930-2356; Е. Штапенко: ORCID 0000-0001-7046-3578; В. Дудкіна: ORCID 0000-0001-6695-9810
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://eadnurt.diit.edu.ua/jspui/handle/123456789/13725
https://base.uipv.org/searchINV/search.php?action=viewdetails&IdClaim=197397&chapter=biblio
Располагается в коллекциях:Інші праці КФ
Охоронні документи

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Patent_87842.pdfPatent177,29 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.