Программный импульсный электролиз металлов и композиционных материалов

Abstract
RU: В монографии обобщаются теоретические и экспериментальные результаты исследований перспективного научного направления в области материалловедения и прикладной электрохимии — программного импульсного электролиза. Рассмотрены вопросы кинетики электродных процессов при импульсных режимах и влияния параметров поляризующего тока на электрохимические характеристики процесса осаждения. Приведены результаты исследования влияния параметров импульсного тока на структуру и свойства покрытий. Отдельная глава посвящена исследованиям влияния параметров импульсов тока на структуру и свойства композиционных покрытий. Приведены обоснования выбора параметров программных режимов импульсного тока для получения функциональных покрытий металлами и сплавами, а также композиционными покрытиями градиентного по концентрации дисперсных наночастиц состава. Монография будет полезна для научных работников и специалистов-материаловедов и электрохимиков, занимающихся электроосаждением металлических покрытий, а также преподавателей и студентов соответсвующих специальностей.
UK: У монографії узагальнюються теоретичні та експериментальні результати досліджень перспективного наукового напрямку в області матеріалознавства і прикладної електрохімії - програмного імпульсного електролізу. Розглянуто питання кінетики електродних процесів при імпульсних режимах і впливу параметрів поляризуючого струму на електрохімічні характеристики процесу осадження. Наведено результати дослідження впливу параметрів імпульсного струму на структуру і властивості покриттів. Окрема глава присвячена дослідженням впливу параметрів імпульсів струму на структуру і властивості композиційних покриттів. Наведено обґрунтування вибору параметрів програмних режимів імпульсного струму для отримання функціональних покриттів металами і сплавами, а також композиційними покриттями градієнтного за концентрацією дисперсних наночастинок складу. Монографія буде корисна для науковців і фахівців-матеріалознавців і електрохіміків, що займаються електроосадженням металевих покриттів, а також викладачів і студентів відповідних спеціальностей.
EN: The monograph summarizes the theoretical and experimental results of research in a perspective scientific direction in the domain of materials science and applied electrochemistry - program pulsed electrolysis. The problems of the kinetics of electrode processes under pulsed modes and the influence of the parameters of the polarizing current on the electrochemical characteristics of the deposition process are considered. The results of the study of the influence of pulsed current parameters on the structure and properties of coatings are presented. A special chapter is devoted to the study of the influence of current pulse parameters on the structure and properties of composite coatings. The substantiations of the choice of parameters of the program modes of the pulsed current for the production of functional coatings with metals and alloys, as well as composite coatings of a gradient in concentration of dispersed nanoparticles composition are present. The monograph will be useful for scientists and materials specialists and electrochemists involved in the electrodeposition of metal coatings, as well as teachers and students of relevant specialties.
Description
Э. Штапенко: ORCID 0000-0001-7046-3578, В. Заблудовский: ORCID 0000-0001-9930-2356, В. Титаренко: ORCID 0000-0001-6695-9810
Keywords
программный импульсный электролиз, структура и свойства металлов, сплавов и композиционных материалов, програмний імпульсний електроліз, структура та властивості металів, сплавів і композиційних матеріалів, program pulse electrolysis, structure and properties of metals, alloys and composite materials, монографія, КФ
Citation
Заблудовский, В. А. Программный импульсный электролиз металлов и композиционных материалов : монография / В. А. Заблудовский, Э. Ф. Штапенко, В. В. Титаренко. – Saarbrücken : Lambert Academic Publishing, 2019. – 250 с. – ISBN 978-3-659-69715-9.– Приводится фрагмент текста.